第二百二十四章 无人自动公交车的强大理解
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28纳米光刻机。 28纳米已经是目前炎国国内光刻机的顶尖水平。 在目前全球光刻机市场中,ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商,他们占据了全球99%的市场份额。 佳能和尼康主要生产22纳米的“低端”DUV光刻机,而ASML大部分产品都是更高端的EUV光刻机。 DUV和EUV实际区别就是光源,DUV指“深紫外线”,EUV指“极深紫外线”,听名字就能感觉到EUV技术更加牛逼。 确实也是如此,DUV光刻机的光源波长为193纳米,EUV光源波长为13.5纳米,而且EUV光源并非地球上天然存在的光线,需要特定的技术和设备才能够制造出来的。 在光源波长越短,折射率越大,能量越大的原理下,光源波长为193纳米的DUV光源一般只能实现25纳米制程,I凭借工作台模式做到了10纳米,但后续再也无法突破10纳米。 太积电也强行用DUV光源生产过第一代7纳米芯片,但是是通过DUV多重曝光实现的,不但工艺复杂,良品率低,其实上所谓的7纳米还有很大水分,太积电也是在第二代7纳米芯片的时候就全面换成EUV光源了。 也就是说,DUV光源做做28纳米、56纳米的制程还行,但涉及7纳米、5纳米,DUV几乎没戏,只能靠EUV技术。 而现在全球范围内,能生产EUV光刻机的供应商,全球只有ASML一家! 毫不夸张的说,ASML凭借EUV技术彻底垄断了全球中高端光刻机市场,根据最新一年的销售额来看,ASML的光刻机占据91%的市场份